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Métrologie quasi in situ de couches fines et d’interfaces par photoémission X multi-énergies // Next-Gen Surface Analysis for Ultrathin Functional Materials
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View JobVers un compromis entre effet de charge et endommagement du matériau lors de la gravure plasma des semiconducteurs III-V // Reducing damage and loading in high aspect ratio III-V etching
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View JobISITE - Métamatériaux acoustiques topologiques non hermitiens pour un contrôle robuste des ondes // ISITE - Non-Hermitian Topological Acoustic Metamaterials for Robust Wave Control
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View JobPost-Doctoral Research Visit F/M Computational design of next-generation optical metasurfaces
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View JobThèse capteur tout optique embarqué pour Gyromètre haute performance embarqué (H/F)
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